Mit der neuesten Ausbaustufe seines bewährten Messsystems ELWIMAT stellt HOFBAUER OPTIK den neuen ELWIMAT-VFS mit integriertem Laserinterferometer vor.

Neben den etablierten Verfahren zur hochpräzisen Winkel- und Positionsbestimmung ermöglicht das System nun auch die longitudinale Positionsmessung im Nanometerbereich.

Das neue Interferometer basiert auf einer fasergekoppelten Laserquelle und ist vollständig in die bestehende ELWIMAT-Systemarchitektur integriert. Dadurch lassen sich Translationsbewegungen und Längenänderungen direkt und simultan zu Winkelabweichungen erfassen – ein entscheidender Vorteil bei der Charakterisierung komplexer opto-mechanischer Systeme.

Die erreichbare Messgenauigkeit liegt – abhängig von Messstrecke und Umgebungsbedingungen – im Bereich von 10 bis 100 nm. In Kombination mit einer präzisen Erfassung der Umgebungsparameter (Temperatur, Druck, Feuchte) wird der Einfluss des Brechungsindex der Luft gezielt kompensiert und eine hohe absolute Genauigkeit sichergestellt.

Der ELWIMAT-VFS richtet sich insbesondere an Anwendungen in der Präzisionsoptik, Feinmechanik und Maschinenkalibrierung. Typische Einsatzgebiete sind die Justage und Vermessung optischer Baugruppen, die Analyse von Führungsgenauigkeiten sowie die Kalibrierung von Linearbewegungen mit höchster Auflösung.

Durch die modulare Architektur kann das System flexibel konfiguriert werden – von Einzelachsen bis hin zu mehrkanaligen Messaufbauten. Die Kombination aus winkel- und längenauflösender Messtechnik in einem System eröffnet neue Möglichkeiten für die ganzheitliche Bewertung von Form-, Lage- und Bewegungsfehlern.

Mit dem ELWIMAT-VFS setzt HOFBAUER OPTIK erneut Maßstäbe in der optischen Präzisionsmesstechnik – ganz im Sinne des Unternehmensmottos:
Knowing the limit – pushing the limit.

Kommen Sie auf die OPTATEC vom 5. bis 7. Mai 2026 und überzeugen Sie sich von der Qualität der Applikationen dieses genialen Messkonzeptes.

Halle 3 Stand 503.